&linkeo_site.keyword0;  

L'activité de MCSE concerne les produits consommables, les sous-ensembles de systèmes de dépôt, les équipements de dépôts ainsi que les appareils de caractérisation des couches minces

&linkeo_site.keyword1; Substrats
Silicium,
Germanium,
Silice, Verre,
Saphir

&linkeo_site.keyword0;&linkeo_site.keyword1; Cathodes pour équipement de pulvérisation cathodique
Cathodes Magnétron DCM/RFM, Mode pulsé
Configuration circulaire et rectangulaire
Compatibilité Vide et Ultravide
Développement spécifique selon critères retenus:
matériaux magnétiques

haute uniformité
haut rendement
&linkeo_site.keyword2;
&linkeo_site.keyword3;

www.thfc.de
www.ionx.de

&linkeo_site.keyword4;&linkeo_site.keyword5; Matériaux de déposition
Métaux et alliages
Oxydes, nitrures, carbures, fluorures
Composés intermétalliques
Mélange pressé à chaud

pour la réalisation de :

Charges d'évaporation
Cibles de pulvérisation cathodique
Cibles pour ablation laser

Services :
Brasure des cibles sur support
Fabrication des supports
Creusets pour évaporation
Raffinage métaux précieux
&linkeo_site.keyword6;

&linkeo_site.keyword7; Eléments chauffants
Graphite
PG, Graphite pyrolytique
PNB/PG/PBN

&linkeo_site.keyword8;&linkeo_site.keyword9;

Couches minces
et caractérisations

&linkeo_site.keyword0;

&linkeo_site.keyword1;

&linkeo_site.keyword2;

&linkeo_site.keyword3;

&linkeo_site.keyword4; Couches minces : réalisation de couches minces selon spécification par :
Evaporation
Pulvérisation cathodique

&linkeo_site.keyword5; Equipements Plasma

GRAVURE

- RIE SI 591 &linkeo_site.keyword6;
- ICP SI 500 &linkeo_site.keyword7;

gravure par procédé RIE et/ou procédé ICP
de -150° à plus de 200°C selon options

&linkeo_site.keyword8; &linkeo_site.keyword9;
&linkeo_site.keyword0; &linkeo_site.keyword1;

CVD
&linkeo_site.keyword2;Dépôt CVD basse température (<100°C)
de matériaux diélectriques (SiO2, Si3N4, etc.). SI 500 ICPECVD

&linkeo_site.keyword3; Caractérisation
Mesures d'épaisseurs et d'indices de couches minces de matériaux transparents.

a/ Réflectomètrie
Système FTP Advanced
RM 1000-2000
 &linkeo_site.keyword4;
   
b/ Ellipsométrie  
1/ mono ou bi-longueurs d"ondes &linkeo_site.keyword5;
2/ spectroscopique
de 190 nm à 2300 nm selon options		 &linkeo_site.keyword6;
3/ in-situ
installation sur équipement de dépôt ou de gravure		 &linkeo_site.keyword7;
4/ semi - automatique et spectroscopique
SENDURO de 290 à 850 nm		 &linkeo_site.keyword8;
5/ Spectroscopique infrarouge Sendira
 &linkeo_site.keyword9;

Pour plus d'information sur les matériels : www.sentech.de

MCSE - 13, rue Robert Vermassen - BP 10002 - 95111 SANNOIS CEDEX - FRANCE // Phone : 01 34 15 28 22 - Fax : 01 34 15 28 86
SARL au capital de 49000 € - RCS Pontoise B 391 183 191 - SIRET 391 183 191 000 33 - APE 7490 B
Distributeur matériaux en céramique, optique, couches minces, fours HARPER.
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